ApplicationsMétrologie par microscopie optique

Analyse de contamination de surface

Contrôle automatisé de processus par métrologie optique

La métrologie IVS peut suivre toutes les étapes de vos process et spécialement celles de photolithographie. La valeur ajoutée clé des systèmes ONTO Innovation IVS réside dans leur capacité à accompagner les productions à grand volume ou à haute technologie.

• Photolithographie : CD / Overlay : Ce sont la spécialité des équipements IVS. Grâce à son grand rendement (Throughput) en nombre de mesures optiques CD et overlay (RG), les outils permettent aux ingénieurs process d’accomplir le meilleur contrôle de process possible.
• Gravure : CD / Overlay : Dans la plupart des usines, la mesure de motifs gravés est essentielle au contrôle qualité final des produits. Ces mesures sont généralement réalisées en échantillonnant la production afin de s’assurer qu’elle franchisse bien le seuil requis de qualité.
• Décollement : CD : Les nouveaux processus de décollement ont fait émerger de nouvelles exigences de mesures. Avec des sites production où chaque mètre carré vaut de l’or, il est largement recommandé d’employer des équipements de métrologie multi-usages. Les systèmes IVS sont capables de contrôler les CD et les VIA des processus de décollement comme ceux de lithographie et de gravure.
• Déposition de film : Hauteur Z : Dans les processus de déposition de film, les changements d’épaisseurs sont critiques pour le succès de l’opération et des performances du dispositif final. Les outils IVS savent mesurer des épaisseurs de films larges jusqu’à 120 microns. Cette capacité est particulièrement appréciée depuis des années par les usines MEMS et aujourd’hui par les usines de compound semiconductor. La mesure IVS de hauteur Z est plus précise, et 3 fois plus rapide que les systèmes de métrologie Profiler.

Les systèmes IVS peuvent contrôler des lots de CD de tests dans des motifs ou dans la puce elle-même, comme la mesure dans la puce lors du process de gravure, pour vous permettre un contrôle total de vos appareils de télécommunication ou automobiles.

 

Analyse Overlay automatisée pour la qualification, le contrôle et le matching de stepper

Afin de contrôler la capacité des équipements de photolithographie, les tests Overlay quotidiens sont répandus. C’est pourquoi, les systèmes IVS de mesures d’Overlay sont la solution idéale pour les technologies de 110 nm jusqu’à 10 um. 
Le protocole de matching de stepper fait partie du suivi quotidien de la production de nos clients et les outils de mesures d’overlay sont les seuls à pouvoir contrôler les paramètres de stepper.
 
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