Système de métrologie optique automatisé
Mesure de dimensions critiques et de marques d’alignementde couches
Système optique IVS clé en main pour mesures de Dimensions Critiques et d’alignement de couches (Overlay Registration)

EUMETRYS, EUropeanMETRologysYStem, est l’entreprise de service au support de systèmes de métrologie optique pour les usines européennes de semiconducteurs, compound semiconductor, MEMS et LED.

Grâce à un grand nombre d’années d’expertise dans la mesure optique, EUMETRYS vend des systèmes de métrologie optique automatisés et leurs pièces détachées, fournit du support applicatif, de la maintenance et dispense des formations aux utilisateurs (process et maintenance) pour les usines et les laboratoires de micro systèmes électromécaniques (MEMS), semi-conducteurs, compound semiconductor (GaAs, GaN, SiC, InP) et LED (Light Emitting Diode).

Nous vous proposons la dernière-née des bureaux d’Etudes d’ONTO innovation: l’IVS 220. A la pointe de la technologie, l’IVS220 embarque innovations et fonctionnalités réputées depuis 40 ans. Neuve ou reconditionnée, vous trouverez ici les spécifications techniques du produit.

Afin de répondre aux besoins et contraintes budgétaires de chaque client, EUMETRYS est en mesure de fournir les IVS200 reconditionnées et de garantir les performances de cet outil éprouvé par les industriels du semiconducteur. Cliquez ici pour plus de détails.

Soucieux de satisfaire autant ses nouveaux clients que ses clients historiques, Eumetrys mets à jour les outils IVS 1.X vers la nouvelle génération d’IVS 200. Cette solution permet de profiter des dernières performances de l’équipement tout en respectant les contraintes budgétaires de tous nos clients. Accédez à l’offre ici.

EUMETRYS est le distributeur exclusif en Europe et en Asie mineure du fabricant d’équipement OEM ONTO innovation. Les IVS sont les systèmes automatiques de mesures optiques de mesure de Dimensions Critiques et d’Alignement de couches.
 


IVS 220 ONTO Innovation

Eumetrys vend désormais le nouveau système IVS 220, un outil de mesure optique automatisée à haute vitesse et à la pointe de la métrologie

Le modèle IVS 220 propose le meilleur coût par mesure pour les technologies les plus avancées des usines produisant des wafers jusqu’à 200mm. Avec un temps de cycle record de 165 wafers par heure (TPUT), une précision 3 Sigma en dessous d’1 nanomètre et avec 1 nanomètre de TIS, l’outil IVS 220 est conçu pour répondre aux besoins de métrologie avancée moderne.

Le système utilise l’imagerie Image Base Overlay soit IBO, et peut mesurer des dimensions critiques (Critical Dimension - CD ou Line Width - LW), des marques d’alignement (Overlay registration), des alignement de couches de type verniers, des diamètres de VIAS et de bumps, des hauteurs et mêmes des pentes pour la mesure de tous les patterns dessinés en photolithographie sous la couche de résine. Il est conçu pour qualifier les niveaux technologiques jusqu’à 65nm pour les usines semiconducteur mais aussi pour répondre à la demande de flexibilité des industries des semi-conducteurs composés avec plusieurs types de substrats aussi variés que les substrats SiC, iNp, GaN et GaAs.

L’outil s’appuie sur le système éprouvé IVS 200 et répond à toutes les demandes de notre clientèle. A partir d’une base fiable et réputée, nous avons ajouté des éléments de haute technologie comme la plateforme ETEL afin de repousser les limites de vitesse de mesure et de précision.

Avec l’IVS220, Eumetrys et ONTO innovation supportent les industries et les exigences toujours plus strictes de leurs process.

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EUMETRYS vend un système de métrologie optique avec manutention automatique et flexible pour les industries du Semiconducteur, des MEMS, des LED, des puissances et de la photonique

L’outil de mesure optique IVS 220 est spécialisé dans les mesures de marque d’alignement (overlay registration) pour le contrôle de stepper & scanner de la photolithographie et pour la mesure de dimensions critiques (critical dimensions - CD).

L’outil IVS220 est construit pour gérer plusieurs types et tailles de substrats et de wafers de 75mm à 200mm sans aucun changement hardware du système. Il peut mesurer des substrats transparents mais aussi des wafers collés (bounded wafers) là aussi sans aucune modification du système ni aucune pré-configuration du hardware.

L’équipe d’EUMETRYS a de nombreuses années d’expérience dans le monde du semi-conducteur. Nous délivrons une solution efficace à nos clients soucieux de maintenir le temps d’utilisation sans panne de leur système (MTBF) et le temps de fonctionnement (UPTIME) au plus haut niveau. Nous travaillons avec de nombreuses usines n’ayant qu’une seule ligne de métrologie. C’est aussi pourquoi, nous avons raccourci au maximum notre temps de réponse afin de minimiser le MTTR (Mean Time To Repair)..

EUMETRYS est le représentant exclusif d'ONTO Innovation et la gamme de produits IVS en Europe et Asie mineure. Nous vendons le nouveau modèle IVS220 avec le meilleur rapport coût-efficacité du marché des substrats 200mm et moins.

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Modèles IVS 200 reconditionnés et mise à jour vers l’IVS 200

En fonction du besoin client et des contraintes budgétaires, nous proposons des systèmes de seconde main : Garantie et spécifications sont maintenues avec le meilleur rapport coût-efficacité (COO) du marché pour cette génération : IVS 200.

Au sein d’Eumetrys, nous considérons que tous les clients méritent une solution efficace, peu coûteuse et pertinente. C’est pourquoi nous avons décidé de fournir un système de seconde main totalement reconditionné par nos services.

Nous vous faisons profiter de notre expertise pour refabriquer les IVS200 que nous avons produites au fil des années et les met à jour vers le dernier et le meilleur système (hardware / logiciel) de la gamme.

Ces outils sont livrés avec leurs spécifications d’origine, acceptance, formation et garantie de 12 mois. Ils sont pleinement supportés par nos services et par le support technique de la marque.

Pour les systèmes reconditionnés (PDF) Contactez nous
 
 



 


Le modèle IVS200 démontre des performances avancées pour un rapport coût/efficacité jamais égalé et supporté par une interface standard Windows 10. Plus qu’un outil de mesures de CD classiques et d’overlays, l’IVS 200 offre un large panel d’algorithmes de métrologie permettant la mesure de structures variées pour le semiconducteur, les semi-conducteurs composés, MEMS et LED. Il est largement répandu dans les industries des télécom, des puissances et de la photonique.

Ce système extrêmement flexible permet à l’usager de mesurer des Overlay, CD et VIA dans la même recette. Le système permet également la mesure de CD avec différentes orientations.

Le modèle d’IVS 200 offre une grande flexibilité en termes de mesures et permet son emploi tant dans les semi-conducteurs composés que dans les semiconducteurs classiques alors même que le rapport coût-efficacité est un facteur clef pour votre usine.


Manutention flexible sur les systèmes IVS : de 75mm à 200m sans modification

 
 
Mise à jour vers l’IVS200

Tous les systèmes IVS peuvent être améliorés vers le dernier logiciel IVS 200 et son interface Semi-standard Windows 10 et ainsi gagner en performance.

Les modèles IVS 1x bénéficient d’améliorations de 20% en précision et de 60% de vitesse d’exécution (TPUT) en étant mis à jour vers la plateforme IVS200 et retrouveront leur plein fonctionnement.

Nous proposons d’échanger directement votre IVS1x par une IVS200 reconditionnée. La garantie couvre les pièces détachées remplacées ainsi que le nouveau logiciel.

Pour la mise à jour d’IVS1x (PDF) Contactez nous
 

Les possibilités des IVS

Le système de métrologie optique IVS, plateforme automatisée avancée, peut mesurer des wafers de 75mm à 200mm sans aucun changement hardware tout en offrant les capacités suivantes

Pour les substrats transparents, les IVS sont équipées d’un système d’alignement transparent basé sur une imagerie innovante ; Cela permet des mesures de wafers transparents et de substrats aux technologies avancées comme le Verre, Quartz, GaN, GaAs, LiN, InP et SiC.

Mesures de dimensions critiques (CD) et d’alignement de couches (Overlay) dans la même recette – Pour le suivi de production standard
 
Cet outil est en mesure de localiser et de mesurer des CD, Overlay ou d’autres motifs à l’intérieur de la puce pour répondre à des besoins de contrôle de la production.
 

Mesure de CD dans la puce (Insight CD)
 

Mesure de marques d’alignement (Overlay) dans la puce (Insight Overlay)

Des mesures sub-microniques de CD ou de pitch pour technologies avancées jusqu’à des mesures de grands CD ou pitch grâce à de puissants objectifs de 2.5X à 150X
 
Afin de répondre aux besoins de plusieurs clients, le logiciel de l’IVS200 et de l'IVS220 permet à l’utilisateur de mesurer des CD standards mais aussi des CD sub-microniques et de très grands CD de la taille du champ de vision du microscope.
 

Mesures CD sub-microniques ou Pitch
 

Mesures de grand CD ou Pitch

Nouveaux substrats SiC / InP
 
Les système IVS 200 et IVS 220 sont capables de mesurer des motifs sur des substrats complexes grâce à leur option de mesures transparentes utilisée dans les industries des puissances, guides d’ondes et photoniques et pour les produits VCSEL.
                         
Le système IVS200 est actuellement utilisé par la plupart des fabricants de semi-conducteurs composés (Compound) aux importants volumes de production.
 

Crête CD des photoniques
 

Ouverture Laser pour VCSEL

Algorithme de mesures structurelles 3D
 
Les métrologies de structures MEMs, CD, hauteur de CD et VIA (grâce à des capacités de mesures par ajustement circulaire) sont régulièrement utilisées par les ingénieurs process en charge des systèmes IVS.
          
La flexibilité du logiciel des systèmes IVS200 et de l’IVS220 permettent aux clients de réaliser des mesures de contrôle sur des couches complexes à l’intérieur de la puce ou le long de la ligne de découpe des substrats.
 

Vias complexes dans la puce
 

Tête d’impression jet d’encre (MEMs)

Mesures de structures LED, VCSEL, Laser et métrologie Vias
 
Avec l’avènement des nouvelles technologies, la demande des clients a évolué et les systèmes IVS200 et de l’IVS220 sont alors adaptés. L’outil offre un nouvel algorithme de mesure de Via et de nouvelles capacités de mesures d’ouverture de VCSEL par exemple.
 

Mesure de Via dans la puce
 

Mesure d’ouverture de VCSEL

Capacité reconnue de mesures d’Overlay pour les processus du Semi-conducteur jusqu’à 110nm
 
Les systèmes IVS200 et de l’IVS220 sont des solutions rentables pour mesurer des marques d’alignement dans des couches et des structures complexes pour des processus jusqu’à 110nm.
 

Mesures d’Overlay TiN
 

Marque d’alignement Semi Standard pour des couches avancées

Mesures spécifiques de très grands Overlay au LETI – Nano-Impression Lithographie (NIL)
 
 
 

Mesures CD ou Pitch sub-microniques
 

 

Mesures de motifs d’Overlay exotiques et de Verniers
 
Dans les nouvelles productions de semi-conducteurs composés, les mesures d’Overlay n’utilisent pas toujours les caractéristiques SEMI standards.
         
Les systèmes IVS200 et de l’IVS220 permettent des mesures d’Overlay non standards comme croix dans des croix, verniers, (liste non exhaustive) …
           
Pour chaque demande de client, notre équipe Applications travaille à trouver une solution pour y répondre.
 

Motif d’alignement de couche (Overlay) exotique
 

Overlay verniers